| 開催日時 |
2011年 5月22日（日）〜27日（金） |
| 開催場所 |
Olympic Parktel （韓国・ソウル） |
| 会合の内容 |
新材料（バイオ・無機・有機材料を含む）および新デバイスの原子スケールキャラクタリゼーション・イメージング・分析法・分析装置に関する研究発表．表面・界面の新分析装置や新しい応用の発表．具体的には，電子・イオン・赤外・紫外・X線等を用いたキャラクタリゼーション(AES / XPS / XPED / EPMA / ISS / MEIS / RBS / SIMS / IR /)，イメージング技術(TEM / STEM / AEM / SEM / SAM / TOF-SIMS / SPM / REM / LEEM / PEEM / FIM)，ナノ技術（ナノワイア/ナノチューブ/ナノ粒子 / ナノカーボン, 生態・医療，固固・固液界面），惑星・環境物質キャラクタリゼーション，スピン偏極電子線，グラフェンと関連物質などに関する研究発表 |
| 主催団体 |
(独)日本学術振興会マイクロビームアナリシス第141委員会 |
| 協賛・後援団体 |
日本表面科学会(予定)
応用物理学会(予定) など |
参加申し込み
締め切り |
2010年11月30日(火) |
| 参加費 |
2011年2月22日(火)まで 一般 $500 / 学生 $250
2011年2月23日(水)以降 一般 $600 / 学生 $300 |
| 問い合わせ先 |
団体名：京都大学大学院工学研究科
担当者名：鈴木 基史
TEL：075-753-5196／FAX：075-753-5196
e-mail：alc11@jsps141.surf.nuqe.nagoya-u.ac.jp
URL：http://alc.surf.nuqe.nagoya-u.ac.jp/alc11/ |