| 日 程 |
2009年12月6日（日）〜11日（金） |
| 場 所 |
米国ハワイ・マウイ島、Kaanapali, Westin Maui Resort & Spa |
| 主 催 |
（独）日本学術振興会マイクロビームアナリシス第141委員会 |
| 共 催 |
（社）日本表面科学会 |
| ホームページ |
http://alc.surf.nuqe.nagoya-u.ac.jp/alc09/ |
| 討論主題 |
新材料（バイオ・無機・有機材料を含む）および新デバイスの原子スケールキャラクタリぜーション・イメージング・分析法・分析装置に関する研究発表、表面・界面の新分析装置や新しい応用の発表、具体的には、電子・イオン・赤外・紫外・Ｘ線等を用いたキャラクタリゼーション（AES/XPS/XPED/EPMA/ISS/MEIS/RBS/IR）、イメージング技術（TEM/STEM/AEM/SEM/SAM/SIMS/SPM/REM/LEEM/PEEM/FIM）、ナノ技術（ナノワイア･ナノチューブ/ナノ粒子、固固、固液界面）、惑星・環境物質キャラクタリゼーション、ナノ分光/グラフェン/ナノスケール3Dイメージング/医学・生物/表面応用などに関する研究発表。 |
| 参加申込締切 |
2009年6月5日 |
| 割引参加登録期限 |
2009年8月7日 |
| プロシーディングス締切 |
2009年10月9日 |
| プロシーディングス |
全発表のプロシーディングスは会議当日に冊子で配布。その中から限られた論文をSurface and Interface Analysis (Wiley) および e-Journal of Surface Science and Nanotechnology（日本表面学会）特集号に掲載予定。 |
| 備 考 |
参加登録、ホテル予約、スチューデントアワード、参加旅費補助等に関する詳細はホームページ参照 |
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First Announcement (PDF) |
| 問合せ先 |
ALC'０９ 実行委員会事務局 日比野浩樹（NTT）
alc09＠jsps.141.surf.nuqe.nagoya-u.ac.jp |