第56回表面科学基礎講座

 

主 催 日本表面科学会
協 賛 日本分光学会ほか
期 日 2013年10月16日(水)〜17日(木)
会 場 大阪大学 コンベンションセンター
(大阪府吹田市山田丘1-1) 
プログラム 第1日(10月16日)
  1. 表面・界面分析概論、真空技術基礎(奈良先端大)大門 寛
  2. 走査プローブ顕微鏡(SPM)(大阪大)菅原康弘
  3. 放射光を利用した表面分析相談(パネル)(原子力機構)吉井賢資
  4. 走査電子顕微鏡、電子プローブマイクロアナライザ(SEM/EPMA)(島津製作所)林 広司
  5. 透過電子顕微鏡(TEM,STEM)(九州工業大)石丸 学
  6. イオン散乱分光法(京都大)中嶋 薫
第2日(10月17日)
  1. 二次イオン質量分析法(D-SIMS/S-SIMS) (パナソニック)森田弘洋
  2. 表面における赤外分光法、ラマン分光法 (東レリサーチセンター)村木直樹
  3. オージェ電子分光法(AES)(日本電子)池尾信行
  4. X線光電子分光法(XPS)(富士通研)中村 誠
  5. 表面回折手法(RHEED/LEED)(大同大)堀尾吉已
受 講 料 協賛学協会会員:30,000円 学生:5,000円,
その他:35,000円(テキスト代,消費税を含む)
申込締切 9月30日(月)
定 員 100名(申込先着順締切)
申込及び問合せ先 日本表面科学会  TEL:03-3812-0266
〒113-0033東京都文京区本郷2-40-13本郷コーポレイション402
E-mail:shomu@sssj.org URL:http://www.sssj.org